可從指定角度方向形成 ≥ 180 x 180 mm2 高度勻化光場,雙軸方向均為平頂光強分布
光學效率可達90%, 全區域不均勻度<7.5%
適用多種激光光源(如半導體激光器、固體激光器、準分子激光器)
可用于多種應用場景,如材料表面加工、機器視覺、非接觸式表面檢測等
技術指標
應用領域
泛半導體制程設備
表面檢測
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