應用于芯片先進封裝工藝的高精度可變光斑激光系統
光斑尺寸獨立連續可調
高光斑均勻度:可實現全光斑范圍內均勻度≥95%的高標準
焦深范圍大
光斑中心精度高:在光斑變化范圍內,光斑中心位置偏差≤±0.3mm
極佳的光斑邊緣陡峭度:典型光斑邊緣陡峭度≤3mm
技術指標
應用領域
泛半導體制程設備
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